在超聲波清洗中，當一定頻率的超聲清洗后達不到清潔的效果時，如果工件上要去除的雜質顆粒較大，就可能是超聲波功率不足，一般增加超聲波功率就可解決該問題;但相反的如果工件上要去除的雜質顆粒非常小，那么無論功率怎么增加，都無法達到清潔的要求。原因在于：當液體流過工件表面時，會形成一層粘性膜。

低頻時一般該層粘性膜很厚，小顆粒就埋藏在里面，無論超聲波的功率(強度)多大，空化氣泡都無法與小顆粒接觸，故無法把小顆粒除去;而當超聲波頻率升高時，粘性膜的厚度就會減少，超聲波產生的空化泡就可以接觸到小顆粒，將它們從工件表面剝落。所以，低頻的超聲波清除大顆粒雜質的效果很好，但清除小顆粒雜質效果就很差。相對而言，高頻超聲對清除小顆粒雜質就特別有效。

一般的來講，清洗五金、機械、汽摩、壓縮機等行業(yè)的清洗多采用28KHZ頻率的清洗機。光學光電子清洗、線路板清洗等多采用40KHZ的頻率，高頻超聲清洗機適用于計算機，微電子元件的精細清洗，兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及波薄膜的清洗，能去除微米、亞微米級的污物而對清洗件沒有任何損傷。

而對于一些清洗(如液晶體、半導體等)的應用上，使用傳統(tǒng)的頻不但沒法達到清洗的要求，而且還可能造成工件的損傷。